AOF.no

MEDLEM- OG TILLITSVALGTSKOLERING

Har du det rette verktøyet for å løse sosiale problemer på arbeidsplassen?

Time for a quick brainstorm

Når vi snakker om HMS, er det mange som kun tenker på fysiske farer på arbeidsplassen. Som følge av dette er det også mange som ikke tar HMS på alvor dersom de for eksempel jobber på kontor, der det tross alt ikke er like høy risiko som på en byggeplass. Men HMS handler også om psykiske utfordringer, og et arbeidsmiljø som ikke setter deg i fare for å få en stålbjelke i hode, kan fremdeles forårsake stor skade. Har du riktige verktøy for å løse sosiale problemer på arbeidsplassen?

Det psykososiale arbeidsmiljøet

Et av AOFs mest populære kurs for verneombud og tillitsvalgte heter Metoder i det psykososiale arbeidsmiljøet. Det psykososiale arbeidsmiljøet utgjør de mellommenneskelige aspektene ved arbeidsplassen din.

Et dårlig psykososialt arbeidsmiljø er for eksempel en arbeidsplass der det foregår mobbing, utestengning eller andre ting som går utover psyken til dem som jobber der. Og selv om det ikke er fare for brukne ben, har vi sett tilfeller der noen har blitt så ødelagt psykisk at de sliter med å komme seg tilbake i arbeidslivet.

Det er alltid ledelsens ansvar å sørge for et godt psykososialt arbeidsmiljø. Men verneombud og tillitsvalgte har en viktig oppgave i å sørge for at ledelsen tar den jobben på alvor.

Ta et kurs for å få flere verktøy

De psykososiale problemene på en arbeidsplass kan ofte virke vanskelige å ta tak i. Derfor har vi utviklet et eget kurs med fokus på metoder og verktøy du kan bruke. Slik kan du føle deg trygg på at når du oppdager problemer, har du kunnskap om hvordan du kan adressere dem.

Kurset er dessuten svært deltakerstyrt. Det betyr at du vil få mulighet til å ta opp konkrete utfordringer fra arbeidsplassen din, og diskutere dem med kursholder og andre deltakere.

Et godt psykososialt arbeidsmiljø øker ikke bare trivselen, men reduserer sykefravær og øker effektiviteten på jobb. Det er gode argumenter for å få med ledelsen på laget.